一种自动换靶的反应电子束蒸发设备

摘要

本发明公开了一种自动换靶的反应电子束蒸发设备，包括真空镀膜腔、进入腔、出口腔和自动换靶装置，进入腔与出口腔分别位于真空镀膜腔的两端，进入腔远离真空镀膜腔的一侧设有第一阀门，与真空镀膜腔相连接的一侧设第二阀门；出口腔与真空镀膜腔相连接的一侧设有第三阀门，远离真空镀膜腔的一侧设有第四阀门，真空镀膜腔设有第一分子泵、第一机械泵和第一气阀，进入腔与出口腔共同连接有第二分子泵和第二机械泵；进入腔设有第二气阀，出口腔设有第三气阀；真空镀膜腔内包括电子束枪、等离子发辉器和镀膜料架，电子束枪设置在真空镀膜腔外且枪头穿过真空镀膜腔进入真空镀膜腔内，镀膜料架位于真空镀膜腔的上部。