一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板及其制备方法

摘要

本发明提供一种用于光学曝光的高分辨率柔性复合掩模板及其制备方法，该柔性复合掩模板由柔性高分子聚合物缓冲层(1)、高杨氏模量的高分子聚合物结构层(2)、金属掩蔽层(3)三层结构组成。缓冲层的低杨氏模量可保证复合模板的可弯曲性与高柔性，为柔性复合模板与光刻胶表面紧密贴合提供基础；结构层杨氏模量较高，可保证其上金属掩蔽层的高精度、高分辨率覆盖，且高分子聚合物与金属膜层的结合力强，使用寿命长；金属掩蔽层不透紫外光、延展性好，可保证金属膜层在受力弯曲时不会发生断裂。本发明的显著特点是该柔性复合掩模版在真空吸附的条件下可与光刻胶无间隙紧密贴合，有效地解决了光学曝光中因光刻胶表面不平整或有灰尘颗粒导致的曝光失真问题。