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一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法

摘要

本发明公开了一种CM/EPDM共混胶单相刻蚀的方法及提高表征橡胶共混物微观结构时分辨率的方法,通过硫化体系硫化CM/EPDM共混胶中的CM相,而保持EPDM相处于未硫化状态;随后利用刻蚀剂将CM/EPDM共混胶中的EPDM相从共混体系中刻蚀掉形成孔洞,留下未被刻蚀的CM相,再利用易挥发的溶剂将多余的刻蚀剂从共混胶中萃取出来,干燥后即可。通过对共混橡胶中的一相进行硫化形成网状结构使其在刻蚀过程中保持稳定结构而不被溶剂侵蚀,将未硫化相刻蚀,形成可观测的表面形貌。

著录项

  • 公开/公告号CN106750491B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 安徽大学;

    申请/专利号CN201710043142.X

  • 申请日2017-01-19

  • 分类号C08J9/26(20060101);C08J3/24(20060101);C08L23/28(20060101);

  • 代理机构34101 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司;

  • 代理人乔恒婷

  • 地址 230601 安徽省合肥市经开区九龙路111号

  • 入库时间 2022-08-23 10:40:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-10

    授权

    授权

  • 2017-06-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08J9/26 申请日:20170119

    实质审查的生效

  • 2017-06-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08J 9/26 申请日:20170119

    实质审查的生效

  • 2017-05-31

    公开

    公开

  • 2017-05-31

    公开

    公开

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