用于化学机械平面化后的基板清洁的系统、方法及设备

摘要

本发明的实施例包括用于在化学机械平面化处理之后预清洁基板的系统、方法及设备。实施例提供：外壳；夹盘组件，该夹盘组件被配置成将基板固定地保持在该外壳内；以及抛光垫组件，该抛光垫组件被配置成抵靠该基板旋转同时被支撑在该外壳内。该抛光垫组件包括：抛光垫，可压缩子垫，该可压缩子垫耦接至该抛光垫，以及垫保持器，该垫保持器耦接至该可压缩子垫以及抛光电机，该抛光电机被配置成旋转该抛光垫组件。公开了众多附加方面。