利用自对准双图案化工艺对晶圆进行图案化的方法

摘要

本发明提供了利用自对准双图案化工艺形成晶圆的图案的方法和布局设计方法。所述形成晶圆的图案的方法包括：准备具有第一设计图案、第二设计图案和设置在第一设计图案与第二设计图案之间的第三设计图案的初始布局；利用计算机从初始布局中提取包括第一设计图案的第一子布局和包括第二设计图案的第二子布局；利用计算机形成包括通过修改第一子布局的第一设计图案获得的第一修改的设计图案的第一修改的子布局；利用计算机产生包括第一修改的子布局和第二子布局的修改的布局；以及利用修改的布局执行双图案化工艺。