用于表面的等离子体处理的装置和用等离子体处理表面的方法

摘要

本发明公开用于表面的等离子体处理的装置和用等离子体处理表面的方法。用于表面(2)的等离子体处理的装置具有：第一电极(4)和第二电极(7)以及在第一电极(4)和第二电极(7)之间的交变电压源(6)、以及至少在第一电极(4)和第二电极(7)之间形成的电场、布置在第一电极(4)的前面且待处理的表面(2)可位于其中的有效区域(9)，且第二电极(7)布置得比第一电极(4)更接近于有效区域(9)，特征在于，设置在第一电极(4)处的具有至少一个出口(5)的用于至少一个工艺气体物流的至少一个工艺气体通道(3)，并且所述至少一个出口(5)指向有效区域(9)的方向，并且所述至少一个工艺气体物流撞击在电场上且所述电场将所述至少一个工艺气体物流转化为等离子体物流且所述等离子体物流撞击在有效区域(9)上。