法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-06-25
授权
授权
2017-02-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20160829
实质审查的生效
2017-02-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20160829
实质审查的生效
2017-01-18
公开
公开
2017-01-18
公开
公开
机译: 光学邻近校正方法,光学邻近校正设备和光学邻近校正程序,半导体器件的制造方法,设计规则制定方法和光学邻近校正条件计算方法
机译: 光学邻近校正方法,光学邻近效果校正设备,光学邻近校正程序,半导体器件的制造方法,图案设计约束条件制定方法和光学邻近校正条件计算方法
机译: 光学邻近校正方法,光学邻近校正装置和光学邻近校正程序,制造半导体装置的方法,设计规则制定方法以及光学邻近校正条件计算方法