首页> 中国专利> 使用缺陷特定的信息检测晶片上的缺陷

使用缺陷特定的信息检测晶片上的缺陷

摘要

本发明提供用于使用缺陷特定的信息检测晶片上的缺陷的方法及系统。一种方法包含获取晶片上的目标的信息。所述目标包含形成在所述晶片上的关注图案及接近所述关注图案或在所述关注图案中发生的已知DOI。所述信息包含所述晶片上的所述目标的图像。所述方法还包含搜索所述晶片或另一晶片上的目标候选者。所述目标候选者包含所述关注图案。提供所述目标及目标候选者位置以进行缺陷检测。此外,所述方法包含通过识别所述目标候选者的图像中的潜在DOI位置及将一或多个检测参数应用到所述潜在DOI位置的图像而检测所述目标候选者中的所述已知DOI。

著录项

  • 公开/公告号CN107358599B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201710413659.3

  • 发明设计人 肯翁·吴;吴孟哲;高理升;

    申请日2013-10-11

  • 分类号G06T7/00(20170101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张世俊

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 10:32:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-17

    授权

    授权

  • 2017-12-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T7/00 申请日:20131011

    实质审查的生效

  • 2017-12-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T 7/00 申请日:20131011

    实质审查的生效

  • 2017-11-17

    公开

    公开

  • 2017-11-17

    公开

    公开

  • 2017-11-17

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号