法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-24
授权
授权
2015-07-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20150130
实质审查的生效
2015-07-08
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20150130
实质审查的生效
2015-06-10
公开
公开
2015-06-10
公开
公开
机译: 用于接收由输入固定的逻辑级别的设备,以生成设备的逻辑级别,该级别由设备的输出编程,从而根据用于设备的光刻图形化的设备的至少一层模板层的变化而进行了处理,该数据结构已使用集成的指令进行了集成,该数据已按原先的指示进行了集成化处理制造集成电路及其确定方法
机译: 用于制造集成电路的光掩模,用于制造集成电路的完成结构二元光掩模,形成光掩模的方法以及对基板进行光刻图形化的方法
机译: 利用微图案印章进行光刻的微纳米混合印章及其制造方法