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用于TEM/STEM层析成像倾斜系列采集和对准的基准形成

摘要

提供了通过使用带电粒子束来创建基准孔并且使用基准孔来改善样品定位、层析成像数据集的采集、对准、重建以及可视化以改善层析成像的方法。一些版本在铣削样品的过程期间用离子束来创建基准孔。其它的版本在采集层析成像数据系列之前使用电子束在TEM内原位创建基准孔。在一些版本中,围绕感兴趣区域战略性地制作、定位多组基准孔。基准孔可用于在采集期间正确地定位感兴趣的特征,并且之后有助于更好地对准倾斜系列,以及改善最终重建的准确度和分辨率。操作员或软件可以用层析成像特征追踪技术来识别待追踪的孔。

著录项

  • 公开/公告号CN106370680B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FEI公司;

    申请/专利号CN201610806416.1

  • 发明设计人 C·布歇-马奎;张亮;L·普兰;

    申请日2016-07-22

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人周学斌

  • 地址 美国俄勒冈州

  • 入库时间 2022-08-23 10:30:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-23

    授权

    授权

  • 2017-08-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/22 申请日:20160722

    实质审查的生效

  • 2017-08-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 23/22 申请日:20160722

    实质审查的生效

  • 2017-02-01

    公开

    公开

  • 2017-02-01

    公开

    公开

  • 2017-02-01

    公开

    公开

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