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掩膜板设计中划片槽结构设计的检查方法

摘要

本发明公开了一种掩膜板设计中划片槽结构设计的检查方法,包括如下步骤:制定工艺的标准配置文件;将各标准配置文件导入到数据库中进行存储;根据实际的工艺需要进行掩膜板设计,设计完成后,采用图形用户界面方式提取需要检查的划片槽结构的版图数据,解析划片槽结构的版图数据的各类对准标记和测试图形的信息,然后从数据库中选择对应的标准配置文件,将解析得到的各类对准标记或测试图形的信息和标准配置文件中的对准标记的信息进行对比操作并输出检查结果;分析检查结果并保存;根据对检查结果的分析确认划片槽结构设计是否合格。本发明能缩短检查时间、提高工作效率并有效降低失误率。

著录项

  • 公开/公告号CN105574029B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201410546523.6

  • 发明设计人 张燕荣;张兴洲;

    申请日2014-10-16

  • 分类号

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人郭四华

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号

  • 入库时间 2022-08-23 10:28:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-26

    授权

    授权

  • 2016-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/30 申请日:20141016

    实质审查的生效

  • 2016-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/30 申请日:20141016

    实质审查的生效

  • 2016-05-11

    公开

    公开

  • 2016-05-11

    公开

    公开

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