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一种SiO2/TiO2减反射膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种SiO2/TiO2减反射膜的制备方法,该方法先利用溶胶‑凝胶碱催化法和浸渍提拉法制备一层SiO2低折射率减反射膜,再将薄膜浸入钛酸丁酯前驱液中,最后置于去离子水中水解,从而将TiO2纳米材料直接引入SiO2减反射膜中。本发明的制备方法工艺简单、可操作性强、反应速度快,制得的减反射膜是将TiO2纳米材料直接引入SiO2薄膜结构中,该减反射膜相比于现有的SiO2/TiO2减反射膜,其透光率高,具有良好的耐磨性,并且可实现折射率的连续可调。

著录项

  • 公开/公告号CN106348616B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201610695543.9

  • 申请日2016-08-19

  • 分类号C03C17/00(20060101);G02B1/113(20150101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人李倩

  • 地址 621999 四川省绵阳市游仙区科学城919信箱987-7分箱

  • 入库时间 2022-08-23 10:25:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-25

    授权

    授权

  • 2017-03-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C17/00 申请日:20160819

    实质审查的生效

  • 2017-03-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 17/00 申请日:20160819

    实质审查的生效

  • 2017-01-25

    公开

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  • 2017-01-25

    公开

    公开

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