首页> 中国专利> 一种荧光偏振荧光磁性分子印迹传感器的制备方法

一种荧光偏振荧光磁性分子印迹传感器的制备方法

摘要

本发明涉及传感器敏感元件及其制备方法,具体涉及一种荧光偏振荧光磁性分子印迹传感器的制备方法,该方法具体包括以下步骤:步骤一、Fe3O4纳米颗粒的制备;步骤二、Fe3O4@SiO2的制备;步骤三、荧光Fe3O4@SiO2的制备;步骤四、荧光MIP‑Fe3O4@SiO2的制备;步骤五、非印迹荧光磁性聚合物(NIP‑Fe3O4@SiO2)的制备。本发明方法制备了一种同时具有荧光和磁性的分子印迹聚合物,并采用荧光偏振技术对该聚合物和被测物质进行检测,得到荧光偏振荧光磁性分子印迹传感器。该方法克服传统荧光分子印迹传感器检测存在的只能检测具有荧光性质的被测物的问题;同时,该方法简化制备工艺流程,增加了检测灵敏性,将检测限可降低至ng/L。

著录项

  • 公开/公告号CN106519150B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安工业大学;

    申请/专利号CN201610992984.5

  • 申请日2016-11-11

  • 分类号C08F292/00(20060101);C08F220/06(20060101);C08F220/56(20060101);C08F8/34(20060101);C08F285/00(20060101);C08F222/14(20060101);C08J9/26(20060101);C09K11/06(20060101);C09K11/02(20060101);G01N21/64(20060101);

  • 代理机构61114 西安新思维专利商标事务所有限公司;

  • 代理人黄秦芳

  • 地址 710032 陕西省西安市未央区学府中路2号

  • 入库时间 2022-08-23 10:25:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-18

    授权

    授权

  • 2017-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F292/00 申请日:20161111

    实质审查的生效

  • 2017-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 292/00 申请日:20161111

    实质审查的生效

  • 2017-03-22

    公开

    公开

  • 2017-03-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号