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一种普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料及其原位制备方法

摘要

本发明公开了一种普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料及其原位制备方法。本发明以聚丙烯胺盐酸盐(PAH)和聚苯乙烯磺酸钠(PSS)两种带相反电荷的高分子聚合物修饰基片,以金属离子盐和亚铁氰化钾为原料,在修饰后的基片上原位合成普鲁士蓝或类普鲁士蓝方形纳米片。所制备的纳米片薄膜经紫外‑可见光谱、扫描电子显微镜、透射电子显微镜测试,纳米片尺寸可控,分散均匀。高分子聚合物的多孔网络限制了纳米片的生长方向,使其呈正方形或长方形,在整个薄膜制备过程中均使用水作为溶剂,对环境无害,且制备工艺简单易行,成本低廉,设备简单,可通过改变简单离子的种类得到不同功能性的薄膜材料,将在材料制备领域得到重要的应用。

著录项

  • 公开/公告号CN105271825B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海第二工业大学;

    申请/专利号CN201510703859.3

  • 发明设计人 王金敏;兰阳;

    申请日2015-10-27

  • 分类号

  • 代理机构上海正旦专利代理有限公司;

  • 代理人王洁平

  • 地址 201209 上海市浦东新区金海路2360号

  • 入库时间 2022-08-23 10:13:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-29

    授权

    授权

  • 2016-02-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C17/42 申请日:20151027

    实质审查的生效

  • 2016-01-27

    公开

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