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单一频率激励下二维空间任意一点合成电场计算的方法

摘要

本发明涉及单一频率激励下二维空间任意一点合成电场计算的方法。对于空间任意一点电场强度的计算,该方法首先基于有限元仿真软件ANSYS,计算出该点在一个周期内的电场强度X、Y分量,通过电场强度合成量幅值与相位的关系,再利用本发明所涉及的方法计算出电场强度合成量的最大值。本方法对于二维空间任意一点的电场强度计算,有着计算时间短、效率高、无理论误差等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN104699989B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN201510142086.6

  • 发明设计人 杨知非;阮江军;杜志叶;金硕;

    申请日2015-03-27

  • 分类号

  • 代理机构武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人鲁力

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

  • 入库时间 2022-08-23 10:08:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-13

    授权

    授权

  • 2015-07-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F19/00 申请日:20150327

    实质审查的生效

  • 2015-06-10

    公开

    公开

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