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一种清除冷中子源系统中氢气杂质的装置和方法

摘要

本发明公开了一种清除冷中子源系统中氢气杂质的装置和方法,该装置利用冷中子源系统中的高压氦气管道和低压氦气管道之间的氦气高低压差,通过吸附装置去除冷中子源系统中的氢气杂质,吸附装置的吸附力强、再生便捷,吸附的氢气杂质被集中排放到冷中子源系统外,不易污染冷中子源系统中的工艺气体,能有效避免冷中子源系统中的氢杂质聚集在系统低温区而导致结构材料发生氢脆失效的不良后果。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-30

    授权

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  • 2017-03-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01B23/00 申请日:20160829

    实质审查的生效

  • 2017-02-01

    公开

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