位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件

摘要

设备(AS)测量在光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。照射装置(940、962、964)从至少第一和第二区域提供离轴辐射。第一和第二源区域相对于光轴(O)在直径上彼此相对并且限定在角范围内。区域可以是根据被测量的标记的周期性方向而选择的小光斑，或者更大区段。可以通过在单个源馈送位置提供辐射至自参考干涉仪而产生在源区域的所选配对处的辐射。改良的半波片位于干涉仪的下游，其可以用于位置测量设备中。改良的半波片使其在一个部分中的主轴相对于在直径上相对的另一部分中的快轴成45°。