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电感耦合型等离子体处理腔室及其抗腐蚀绝缘窗口及制造方法

摘要

本发明提供了一种等离子处理腔室及其抗腐蚀组件及制造方法,所述组件上利用烧结方法在其面对等离子体的一面涂覆有一层钇化物涂层。本发明尤其适用于电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口。本发明提供的电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口涂层组织致密稳定,无颗粒污染风险,并且造价低。并且,由于涂层厚度可控,与氧化铝基地的绝缘窗口热匹配性能好,因此不会发生热致开裂等问题。

著录项

  • 公开/公告号CN104715994B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-08-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中微半导体设备(上海)有限公司;

    申请/专利号CN201310688135.7

  • 发明设计人 张力;贺小明;

    申请日2013-12-13

  • 分类号

  • 代理机构上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人王洁

  • 地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-05

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更前: 变更后: 申请日:20131213

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-08-25

    授权

    授权

  • 2017-08-25

    授权

    授权

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20131213

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20131213

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20131213

    实质审查的生效

  • 2015-06-17

    公开

    公开

  • 2015-06-17

    公开

    公开

  • 2015-06-17

    公开

    公开

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