法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-05-17
授权
授权
2015-01-14
实质审查的生效 IPC(主分类):G11B 5/66 申请日:20140610
实质审查的生效
2014-12-24
公开
公开
机译: 该合金和溅射靶材料具有垂直记录介质用的软磁薄膜层,该垂直记录介质用于垂直记录介质中的软磁薄膜层。
机译: 作为用于垂直记录介质的基板的检查方式,用于检查用于垂直记录介质的基板的用于垂直记录介质的基板的形状。
机译: 垂直记录介质的生产方式和垂直记录介质