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具有位错弯曲结构的发光装置

摘要

本发明提供一种用于减少发射装置的有源区中的位错的数目的解决方案。位错弯曲结构可包括于该发射装置中介于衬底与有源区之间。该位错弯曲结构可被配置以例如归因于足够量的应变的存在而在位错到达该有源区之前使位错弯曲和/或消灭。该位错弯曲结构可包括多个层,而相邻层由一材料构成,但相应材料中的元素的摩尔分数在两层之间存在差异。该位错弯曲结构可包括至少40对相邻层,在相邻层之间元素的摩尔分数相差至少百分之五。

著录项

  • 公开/公告号CN103597618B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 传感器电子技术股份有限公司;

    申请/专利号CN201280013116.8

  • 发明设计人 R·格斯卡;杨锦伟;M·舒尔;

    申请日2012-02-11

  • 分类号H01L33/02(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人袁玥

  • 地址 美国南卡罗来纳

  • 入库时间 2022-08-23 09:50:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-21

    授权

    授权

  • 2014-03-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/02 申请日:20120211

    实质审查的生效

  • 2014-02-19

    公开

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