法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-01-04
授权
授权
2015-04-01
著录事项变更 IPC(主分类):G01B 11/03 变更前: 变更后: 申请日:20140218
著录事项变更
2014-07-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/03 申请日:20140218
实质审查的生效
2014-06-04
公开
公开
机译: 基于纳米尺度位移感测与估计的反馈控制光刻技术系统及方法
机译: 基于纳米尺度位移感测与估计的反馈控制光刻技术系统及方法
机译: 基于相敏光学相干层析成像技术的光学传感,基于粘弹性介质中光学力引起的位移测量