提高高温RTA制程硅片接触点处少数载流子寿命的装置

摘要

本实用新型公开一种提高高温RTA制程硅片接触点处少数载流子寿命的装置，包括RTA机台、基座、升降部件和驱动部件，基座为一侧具有开口的环形结构，且其内径小于硅片直径，开口与RTA机台进口相对；升降部件一端与连接在RTA机台上盖的石英玻璃上，另一端与基座连接，升降部件能够带动基座上升或下降，使基座处于石英顶针顶端上方或下方；驱动部件用于驱动升降部件上升或下降；基座和升降部件均安装在RTA机台内。本实用新型能够实现在RTO工艺时硅片脱离石英顶针长氧化膜，使硅片表面全部覆盖氧化膜，从而提高硅片的少数载流子寿命，为后续高温RTA制程时硅片与石英顶针接触处提供应力缓冲及污染阻挡的作用，提高硅片的合格率。