表面粗糙度达到零点一纳米级的超光滑抛光工艺

摘要

本发明公开了一种表面粗糙度达到零点一纳米级的超光滑抛光工艺，该工艺包含四个抛光阶段，达到不同的抛光效果：以机械磨削为主要作用的，以去除研磨破坏层为主要目的的粗抛阶段、以物理作用为主要特征的，以实现一定表面平面度为主要目的的精抛阶段、以化学作用为主要特征的，以去除亚表面损伤层为目的的初超抛阶段、以流变作用为主要特征的，以实现低表面粗糙度（RMS)抛光为目的的超抛阶段，从而实现光学材料表面原子重新排列在一个水平面上，达到超精密光学元件表面粗糙度RMS≤0.1nm的抛光要求。本发明提出的表面粗糙度RMS≤0.1nm的超光滑抛光工艺，产品质量稳定性好，可实现批量生产。