首饰上釉调整系统及上釉装置

摘要

本实用新型涉及一种首饰上釉调整系统及上釉装置，首饰上釉调整系统包括上釉装置、检测元件和主机。上釉装置包括清洗部、存储部和喷淋管，清洗部内形成有第一容置腔，第一容置腔用于容纳清洗液；存储部内形成有第二容置腔，第二容置腔用于容纳釉液；喷淋管内形成有喷射通道，喷淋管上形成有分别与喷射通道相连通的第一连接口、第二连接口和喷出口，第一容置腔通过第一连接口与喷射通道相连通，第二容置腔通过第二连接口与喷射通道相连通，喷出口用于喷出清洗液或釉液。清洗部和存储部都连接于同一喷淋管，提高了上釉装置的结构集成度，有利于上釉装置的小型化。