首页> 中国专利> 一种生产良品率高的MOCVD反应腔

一种生产良品率高的MOCVD反应腔

摘要

本实用新型公开了一种生产良品率高的MOCVD反应腔,包括反应室、滤杂机构;反应室上连接有入气管;滤杂机构安装于入气管上,滤杂机构包括滤杂箱,滤杂箱上连接有进气管,入气管和进气管均与滤杂箱内部相连通,滤杂箱内设有抽拉式过滤机构,抽拉式过滤机构包括安装件,用于安装第一筛网、第二筛网和转轴,进而可以对反应气体进行过滤;安装件滑动设于滤杂箱内,方便工作人员取下安装件,以便对第一筛网和第二筛网进行清洁。本实用新型通过反应室上相应机构的设置,可以对反应气体进行过滤,使得油污或其他颗粒不易倒吸到反应腔内,保证反应腔内MOCVD的反应质量,提高MOCVD的生产良品率,从而可以保证生产者的经济收益。

著录项

  • 公开/公告号CN215628279U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏实为半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202122093293.0

  • 发明设计人 田青林;黎静;陈淼;

    申请日2021-09-01

  • 分类号C23C16/18(20060101);C23C16/44(20060101);

  • 代理机构11621 北京和联顺知识产权代理有限公司;

  • 代理人谢冰

  • 地址 221000 江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路北侧、华山北路

  • 入库时间 2022-08-23 04:14:25

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号