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一种Ta2O5/ZnO/HfO2非对称双异质结发光二极管及其制备方法

摘要

本发明公开了一种Ta2O5/ZnO/HfO2非对称双异质结发光二极管及其制备方法。该发光二极管在衬底自下而上依次为HfO2电子阻挡层、本征ZnO有源层、Ta2O5空穴阻挡层和第一电极,第二电极和HfO2电子阻挡层并列沉积在衬底上。采用Ta2O5作为空穴阻挡层,与HfO2电子阻挡层配合作用将载流子限制在ZnO有源层中,能有效地抑制p‑GaN衬底侧的发光、提高ZnO有源层的发光强度。Ta2O5/ZnO/HfO2非对称双异质结发光二极管发光峰值波长在680nm附近,半高宽约为150nm。制备工艺简单、成本低廉,易于实现产业化。

著录项

  • 公开/公告号CN103633204B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN201310640099.7

  • 申请日2013-12-04

  • 分类号H01L33/02(20100101);H01L33/26(20100101);H01L33/14(20100101);

  • 代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人汪俊锋

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

  • 入库时间 2022-08-23 09:44:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-17

    授权

    授权

  • 2014-04-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/02 申请日:20131204

    实质审查的生效

  • 2014-03-12

    公开

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