公开/公告号CN214428903U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-10-19
原文格式PDF
申请/专利号CN202120717519.7
申请日2021-04-09
分类号H01S5/02315(20210101);H01S5/02253(20210101);H01S5/024(20060101);H01S5/40(20060101);
代理机构
代理人
地址 276800 山东省日照市东港区秦楼街道文湖路69号毓秀园
入库时间 2022-08-23 01:04:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 5/02315 专利号:ZL2021207175197 申请日:20210409 授权公告日:20211019
专利权的终止
机译: 一种包括至少一个高功率二极管激光器的高功率激光二极管阵列,包括该高功率激光二极管阵列的激光光源及其制造方法
机译: 双腔,基于泵浦二极管操作,单模-大功率激光器
机译: 去除了生长基质的基于氮化物的激光二极管的结构以及制造基于氮化物的激光二极管阵列结构的方法