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基座、基板支撑部及包括基座和基板支撑部的基板处理装置

摘要

本实用新型涉及一种基座、基板支撑部以及包括基座和基板支撑部的基板处理装置,该基座包括:基底,用于支撑基板;以及涂层,形成在所述基底上,用于放置基板,其中,所述涂层包括:第一涂层,支撑所述基板;以及第二涂层,形成为包围所述基板的侧面,其中,所述第二涂层包括:涂层倾斜面,与所述第一涂层以形成钝角的方式连接;以及凸出部件,位于所述涂层倾斜面的上部并朝向所述基板的内侧凸出,所述凸出部件朝向所述基板的外侧倾斜,以便从所述基板的侧面隔开。

著录项

  • 公开/公告号CN213878068U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-08-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 周星工程股份有限公司;

    申请/专利号CN202022798026.9

  • 发明设计人 权秀泳;朴相和;

    申请日2020-11-27

  • 分类号H01L21/687(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构11327 北京鸿元知识产权代理有限公司;

  • 代理人姜虎;陈英俊

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-22 23:24:22

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