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一种用以X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置

摘要

本实用新型涉及一种用以X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置,其包括机体,所述机体的一侧开设有用以熔样的熔样室,所述熔样室底壁上设置若干放置台,所述放置台内部开设有放置槽,所述放置槽内放置有用以熔样的坩埚,且所述放置槽内设置有用以对坩埚进行加热高频加热线圈,所述机体上设置有用以带走熔样室热量的换热器,所述换热器内流通有制冷剂。本实用新型的优点是:可提高坩埚的冷却速率,进而提升制样效率。

著录项

  • 公开/公告号CN211785233U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 重庆地之源地质工程检测有限公司;

    申请/专利号CN202020382176.9

  • 申请日2020-03-23

  • 分类号G01N23/2202(20180101);G01N23/223(20060101);G01N1/44(20060101);G01N1/42(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 400050 重庆市九龙坡区含谷镇谷西街7#7-1-7#

  • 入库时间 2022-08-22 17:33:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-07

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N23/2202 专利号:ZL2020203821769 申请日:20200323 授权公告日:20201027

    专利权的终止

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