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材料缺陷检测投影光学系统、卷材和片材的缺陷检测装置

摘要

本实用新型公开了材料缺陷检测投影光学系统、卷材和片材的缺陷检测装置,所述材料缺陷检测投影光学系统至少包括:光源组件,包括至少一个光源,光源位于待测物的一侧,用于向待测物投射光线;背景组件,包括一个背景板,背景板位于待测物的另一侧且与待测物平行放置,背景板朝向待测物的一面涂覆有漫反射层,光源投射的光线透过待测物使待测物成像在背景板上;相机组件,包括至少一个工业相机,工业相机的镜头指向背景板上光源投射光线与待测物的交汇区域,用于拍摄待测物在背景板上的成像。本实用新型使得检测能够更加完善和全面。

著录项

  • 公开/公告号CN211785064U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州利珀科技有限公司;

    申请/专利号CN202020303410.4

  • 发明设计人 程岩;柯林旭;陆哲;

    申请日2020-03-12

  • 分类号G01N21/01(20060101);G01N21/958(20060101);

  • 代理机构33231 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘艳艳

  • 地址 311305 浙江省杭州市临安区青山湖街道大园路723号越秀星汇中心20层2001室

  • 入库时间 2022-08-22 17:33:11

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