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水下通道基坑沿水两岸的端头处的止水帷幕

摘要

本实用新型公开了一种水下通道基坑沿水两岸的端头处的止水帷幕,包括设置于水下通道基坑沿水两岸的端头处的底板以下相互水平连接设置的第一高压旋喷桩和第二高压旋喷桩,位于水下通道基坑底板以上与所述第一高压旋喷桩垂直衔接的第三高压旋喷桩;所述第二高压旋喷桩、第三高压旋喷桩及其下第一高压旋喷桩位于所述水下通道基坑沿水两岸的端头处的基坑围护桩的内侧。本实用新型能够止水效果好,能够消除或者降低水下通道基坑发生渗漏的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN211498907U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-09-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海建工二建集团有限公司;

    申请/专利号CN201921951932.9

  • 发明设计人 叶枫;

    申请日2019-11-08

  • 分类号E02D19/18(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区福山路33号5楼D座

  • 入库时间 2022-08-22 16:42:10

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