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用于测量多层重叠对准精确度的重叠游标图案及测量方法

摘要

一种用于测量多层重叠对准精确度的重叠游标图案及测量方法,该方法测量一第一材料层上的一第一对准标记与一第二材料层上的邻近该第一对准标记的一第二对准标记间的距离,以获得该第一材料层与该第二材料层间的对准偏移量;另外,该方法亦可测量该第二材料层上的该第二对准标记与一第三材料层上的邻近该第二对准标记的一第三对准标记间的距离,以获得该第二材料层与该第三材料层间的对准偏移量;由于在测量该第一材料层与第二材料层间的对准精确度及测量该第二材料层与该第三材料层间的对准精确度时,该第二对准标记可被重复使用,因此便可节省用来形成对准标记的切割道面积及测量时间,而增加产品的生产率。

著录项

  • 公开/公告号CN1202559C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN03100083.5

  • 发明设计人 陈子清;

    申请日2003-01-07

  • 分类号H01L21/027;H01L21/66;H01L21/82;G03F7/00;

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈红

  • 地址 台湾省新竹市

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-05-18

    授权

    授权

  • 2003-12-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-10-01

    公开

    公开

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