公开/公告号CN209974873U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-01-21
原文格式PDF
申请/专利权人 杭州朗为科技有限公司;
申请/专利号CN201920349203.X
申请日2019-03-19
分类号
代理机构
代理人
地址 310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道纳贤街3号1幢4楼
入库时间 2022-08-22 12:17:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-21
授权
授权
机译: 线性扫描磁控溅射阴极和扫描在线系统,用于无电弧反应沉积和高靶材利用率
机译: 线性扫描磁控溅射阴极和扫描在线系统,用于无电弧反应沉积和高靶材利用率
机译: 线性扫描磁控溅射阴极和扫描在线系统,用于无电弧反应沉积和高靶材利用率