公开/公告号CN209342634U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-09-03
原文格式PDF
申请/专利权人 航天科工武汉磁电有限责任公司;
申请/专利号CN201822026105.0
申请日2018-12-04
分类号
代理机构北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人孙海杰
地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区华光大道5-2号
入库时间 2022-08-22 10:30:24
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-09-03
授权
授权
机译: 测量微波反射率的装置和方法以及具有该装置的微波炉
机译: 用于测量容器中填充物液位的测量装置,生成与微波脉冲相同的辅助信号,该信号叠加在反射率信号上以生成测量信号
机译: 校准用于测量微波成分的测试仪的方法,包括通过与反射率标准品上的固定参考校准测量相关的记录来记录探头在每个接触位置的位置变化