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平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构

摘要

平面镜片的偏心研抛装置的下研抛机构,包括操作台,操作台上设有抛光液回收槽,抛光液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘上偏心放置有保持环,保持环内圈设有内齿轮,保持环受到固定在操作台上限位器的限制,保持环内放置有与内齿轮完全啮合的游星轮式保持架,游星轮式保持架上设有研磨孔;上研磨盘相对于下研磨盘偏心设置在其上方。本实用新型有效解决了平面镜片表面划伤的问题,且研抛效率高,获得的平面镜片上下表面一致性更好,研磨更加均匀。

著录项

  • 公开/公告号CN208788207U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-04-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州智谷精工有限公司;

    申请/专利号CN201821607521.3

  • 发明设计人 熬雪梅;袁巨龙;陈芝向;张万辉;

    申请日2018-09-27

  • 分类号

  • 代理机构北京中济纬天专利代理有限公司;

  • 代理人陈振华

  • 地址 311121 浙江省杭州市余杭区余杭街道文一西路1818-2号5幢206室

  • 入库时间 2022-08-22 08:57:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-26

    授权

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