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公开/公告号CN208632633U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-03-22
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市矩阵多元科技有限公司;
申请/专利号CN201821036025.7
发明设计人 代瑞娜;张晓军;胡凯;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭;
申请日2018-07-02
分类号
代理机构深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人余薇
地址 518000 广东省深圳市南山区西丽街道朗山路28号通产新兴产业园3号厂房1楼北侧
入库时间 2022-08-22 08:31:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-22
授权
机译: 使用脉冲激光沉积和相同的脉冲激光沉积装置形成硅化物的方法,能够获得较高质量的硅化物
机译: 脉冲激光沉积系统,用于冷却带有微调装置的基质和使用该装置的发光二极管单元
机译: 复杂旋转运动转移装置的高真空脉冲激光沉积系统目标固定
机译:用于铁电场效应装置应用的脉冲激光沉积过程的脉冲激光沉积过程
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机译:双层电解质薄膜Gadolinia掺杂的二氧化铈/ yttra稳定氧化锆通过脉冲激光沉积用于电化学装置
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