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公开/公告号CN207911114U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-09-25
原文格式PDF
申请/专利权人 青海师范大学;
申请/专利号CN201820027284.7
发明设计人 周永杰;马俊;李斐;县涛;魏学刚;刘雅静;
申请日2018-01-08
分类号H05H1/26(20060101);
代理机构11350 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人汤东凤
地址 810008 青海省西宁市城西区五四西路38号
入库时间 2022-08-22 06:29:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-25
授权
机译: 常压等离子体产生装置,常压等离子体产生电路和常压等离子体产生方法
机译: 广域常压等离子体射流装置
机译: 产生多个常压冷等离子体射流的过程
机译:用于软材料和生物材料处理的常压等离子体射流的OH产生量和射流长度
机译:常压等离子体射流喷射长度的研究
机译:关于常压常压等离子体射流辐射的磁场信号
机译:NH 3 inf>等离子体处理对常压TFT TFT Al 2 inf> O 3 inf> / HfO 2 inf>栅极电介质的影响等离子体射流沉积IGZO通道
机译:在碳纤维增强的聚合物上进行氩氧常压等离子体处理,以改善粘合性。
机译:FeCoNiCr中熵合金(MEA)的十八烷基三氯硅烷和常压等离子体射流的表面改性
机译:使用常压H2 / ar等离子体射流和金线作为纳米粒子源在气相中合成的金纳米粒子的直径控制:通过改变H2 / ar混合比来控制
机译:氧化铝颗粒在常压等离子体射流中的行为。