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一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅

摘要

本实用新型涉及一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅,是在熔石英基底同一表面制作光束采样光栅和亚波长光栅减反结构,在实现光束采样功能的基础上增加透过率。采样光栅和亚波长光栅的条纹方向可以平行、垂直或成角度。亚波长光栅的线密度在4500线/mm以上,刻蚀深度70~80nm,占宽比0.3~0.5。本实用新型对于351nm的TE偏振入射光,其透过率>95%。

著录项

  • 公开/公告号CN207424284U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-05-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN201720561886.6

  • 申请日2017-05-19

  • 分类号G02B5/18(20060101);G02B1/118(20150101);

  • 代理机构11251 北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人杨学明;顾炜

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2022-08-22 05:09:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-29

    授权

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