法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-05
专利权的转移 IPC(主分类):B01D45/16 登记生效日:20200518 变更前: 变更后: 申请日:20170505
专利申请权、专利权的转移
2018-01-12
授权
授权
机译: 用于处理基板的真空处理系统具有压力分离装置,该压力分离装置具有分离元件,该压力分离装置通过在基板上延伸间隙的形成而在与基板的输送方向成横向的方向上延伸。
机译: 应用于图像传输系统的信号分离装置及相关方法
机译: 用于在鞋类零件上施加涂层的预处理方法和紫外线辐射系统被应用于鞋类零件上涂层的预处理。