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用于X、γ辐射剂量仪校准的可变散射腔γ射线照射装置

摘要

本实用新型属于辐射剂量监测与校准技术领域,公开了一种用于X、γ辐射剂量仪校准的可变散射腔γ射线照射装置。该γ射线照射装置还包括位于散射腔一侧的散射腔后体;所述散射腔后体的主体材料为铅,形状为长方体形,该长方体形结构上开有两个贯穿的圆柱形通道,其中一个通道用于放置钨合金屏蔽体,另一个通道作为散射腔后体开口且直径与散射腔相匹配;散射腔后体由气缸推动,开启γ射线照射装置时,气缸推动散射腔后体至散射腔后体开口正对着散射腔,关闭γ射线照射装置时,气缸拉动散射腔后体至钨合金屏蔽体正对散射腔。该装置具有在不增加照射装置重量和体积的前提下,能有效增加散射腔体积、降低散射辐射的有益效果。

著录项

  • 公开/公告号CN206057592U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-03-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国原子能科学研究院;

    申请/专利号CN201621071959.5

  • 发明设计人 高飞;

    申请日2016-09-22

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 102413 北京市房山区新镇北坊三强路1号院

  • 入库时间 2022-08-22 02:20:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-29

    授权

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