首页> 中国专利> 高层建筑基础设计中不均匀沉降的处理装置

高层建筑基础设计中不均匀沉降的处理装置

摘要

本实用新型公开了一种高层建筑基础设计中不均匀沉降的处理装置,包括有地下室、室内地坪,所述地下室的一侧设置有剪力墙,所述地下室的下面设置有筏板基础,所述室内地坪上设置有框架柱,并且框架柱倾斜的落在筏板基础上;通过将框架柱倾斜的落在筏板基础上,以解决现有方法导致后期施工不便的问题。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):E02D29/045 授权公告日:20151216 终止日期:20180805 申请日:20150805

    专利权的终止

  • 2015-12-16

    授权

    授权

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号