公开/公告号CN204417582U
专利类型实用新型
公开/公告日2015-06-24
原文格式PDF
申请/专利权人 常熟市虞华真空设备科技有限公司;
申请/专利号CN201420867385.7
发明设计人 戴建新;
申请日2014-12-31
分类号C23C14/35(20060101);
代理机构南京苏高专利商标事务所(普通合伙);
代理人张俊范
地址 215500 江苏省苏州市常熟市虞山高新技术产业园深圳路70号
入库时间 2022-08-22 00:39:20
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-06-24
授权
授权
机译: 用于控制真空镀膜系统中磁控溅射时镀膜速率横向分布的装置,具有用于调节从气体通道段进入真空室的气体流量的气体调节单元,该气体调节单元被设置为致动器
机译: 在金属镀膜室中用大功率脉冲磁控溅射电源预处理和/或镀膜体,包括使电源脉冲彼此同步,并通过电源产生气体和金属离子
机译: 磁控溅射源,溅射镀膜系统以及通过提高功率密度来提高镀膜效率的基体镀膜方法