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一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置

摘要

本实用新型属于材料表面改性领域,具体为一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置。该装置的真空室内设置工件台、靶材,靶材正面与工件台相对;置于靶材后面的轴向磁场发生装置套在法兰或支撑圆筒上,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护;置于真空室外的旋转横向磁场发生装置套在靶材外侧的法兰或支撑圆筒上,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护;置于等离子体传输通道的轴向磁场发生装置套在真空室外侧的法兰或支撑圆筒上,与法兰或支撑圆筒之间通过绝缘保护。本实用新型通过旋转横向磁场控制弧斑的运动,改善弧斑的放电形式,提高弧斑运动速度及靶材表面大颗粒的发射,同时通过轴向磁场约束等离子体传输,提高等离子体的密度和利用率。

著录项

  • 公开/公告号CN203569181U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2014-04-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院金属研究所;

    申请/专利号CN201320765133.9

  • 发明设计人 赵彦辉;肖金泉;于宝海;

    申请日2013-11-28

  • 分类号

  • 代理机构沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张志伟

  • 地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

  • 入库时间 2022-08-22 00:06:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-16

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C14/35 授权公告日:20140430 终止日期:20171128 申请日:20131128

    专利权的终止

  • 2014-04-30

    授权

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