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一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置

摘要

本实用新型公开一种用于石墨烯化学气相沉积设备的杂质气体吸附装置,包括一气流通道,该通道一端为石墨烯化学气相沉积中的混合气体入口,在气流通道外侧装有若干组半导体致冷片,各致冷片通电联接形成电学低温气流冷阱并吸附杂质气体,气流通道另一端为纯化气体出口。本实用新型采用半导体致冷器件,通过低温吸附的方法,除去混合气源中的杂质气体,结构简单,使用方便,易于维护。

著录项

  • 公开/公告号CN203264325U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2013-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门烯成新材料科技有限公司;

    申请/专利号CN201320211860.0

  • 发明设计人 刘长江;连榕;

    申请日2013-04-24

  • 分类号B01D8/00(20060101);C23C16/26(20060101);C23C16/44(20060101);

  • 代理机构厦门市诚得知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人程文敢

  • 地址 361000 福建省厦门市火炬高新区创业园伟业楼南楼S301C室

  • 入库时间 2022-08-21 23:56:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-11

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):B01D8/00 变更前: 变更后: 申请日:20130424

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2013-11-06

    授权

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