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用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统

摘要

本实用新型提供的用于对半导体激光光束整形的匀光透镜、匀光激光光源及光学系统,包括具有相对设置的接收激光射入的入射面和该激光射出的出射面,入射面是半柱形曲面,出射面为非球面;且该非球面的母线两端距离大于所述半柱形曲面母线的两端距离,以确保经入射面射入的激光全部入射到所述出射面上。该匀光透镜结构简单,易于批量加工,成本低廉,尤其是能很好的实现对各种波长的半导体激光器输出激光光束发散角的调整和激光输出光能量高斯曲线分布进行均匀化调整,提高激光光能量的利用率的同时,具有很好的匀光和消象差性能。

著录项

  • 公开/公告号CN203101668U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2013-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安华科光电有限公司;

    申请/专利号CN201320085174.3

  • 发明设计人 孙建华;卢长信;张哲子;杨英姿;

    申请日2013-02-26

  • 分类号G02B3/02(20060101);G02B3/06(20060101);G02B27/09(20060101);G02B27/30(20060101);G02B7/04(20060101);G02B26/10(20060101);G02B27/00(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 710077 陕西省西安市高新区锦业路67号

  • 入库时间 2022-08-21 23:51:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-31

    授权

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