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电阻体材料、电阻薄膜形成用溅射靶、电阻薄膜、薄膜电阻器以及它们的制造方法

摘要

本发明的目的是提供一种即使经过相对低温的热处理也电阻率、电阻温度特性、高温稳定性、耐盐水性均优良的薄膜电阻器和用于制造所述薄膜电阻器的电阻体材料以及制造方法。本发明提供了一种电阻体材料,该电阻体材料是在Ni合金中添加有3~20质量%的硅酸盐系玻璃,其中,该Ni合金含有10~60质量%的选自Cr、Al和Y中的1种以上的添加元素,并且余量是Ni和不能避免的杂质,该硅酸盐系玻璃以SiO

著录项

  • 公开/公告号CN102117670B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友金属矿山株式会社;

    申请/专利号CN201010529259.7

  • 发明设计人 横林贞之;杉原雅博;

    申请日2010-10-29

  • 分类号

  • 代理机构隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人菅兴成

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:39:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-04

    授权

    授权

  • 2012-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01B 1/16 申请日:20101029

    实质审查的生效

  • 2011-07-06

    公开

    公开

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