一种应用于真空涂层领域的新型工件架

摘要

本实用新型公开了一种应用于真空涂层领域的新型工件架，包括工件架大盘(5)、工件架小盘(6)、工件套管(8)和拨叉(7)，其特征在于，工件架大盘(5)上安装有多个工件架小盘(6)，工件架小盘(6)上安装有多个工件套管(8)，每个工件架小盘(6)相应安装有一个或者多个拨叉(7)，每个拨叉提供一个或者多个触点。本实用新型提供的工件架采用多个拨叉或者多触点拨叉，可以有效地提高工件上沉积涂层的均匀度。