双离子束共溅射淀积原子层纳米薄膜设备

摘要

本实用新型为一种双离子束共溅射淀积原子层纳米薄膜设备。利用甚低能量的离子在靶材上的动能转换，将靶材原子搬迁出来并在附近的衬底上生长单原子纳米膜或微米膜。同时利用另一离子束在淀积前对靶材或衬底材料进行原位轰击，实现表面材料的原子级清洗；或者轰击正在淀积的薄膜，原位改善薄膜的机械特性和电特性。这种以纳米尺寸的逐原子层淀积的薄膜，实现了不同薄膜层间的原子键合，使得膜层具有了粘附性牢、均匀性和致密性好、极小内应力的优点，大大地提高了薄膜的性能。