法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-04-12
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06F19/00 授权公告日:20160406 终止日期:20180427 申请日:20130427
专利权的终止
2016-04-06
授权
授权
2013-09-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F19/00 申请日:20130427
实质审查的生效
2013-08-07
公开
公开
机译: 一种用于电磁辐射的散射层的制造方法
机译: 一种测量电磁辐射的吸收或散射的方法
机译: 散射辐射,即X射线,一种用于双X射线吸收法的校正方法,涉及从成像值确定二次辐射部分,该校正值在形成均匀吸收系数目标区域的校正图像区域中