公开/公告号CN102905905B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-03-09
原文格式PDF
申请/专利权人 皇家飞利浦电子股份有限公司;
申请/专利号CN201180014562.6
申请日2011-03-16
分类号B41J2/447(20060101);B41J2/45(20060101);G06K15/12(20060101);B41J2/475(20060101);G03F7/20(20060101);G02B26/00(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人初媛媛;汪扬
地址 荷兰艾恩德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:36:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-21
专利权的转移 IPC(主分类):B41J2/447 登记生效日:20200702 变更前: 变更后: 申请日:20110316
专利申请权、专利权的转移
2020-07-21
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):B41J2/447 变更前: 变更后: 申请日:20110316
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2016-03-09
授权
授权
2013-04-17
实质审查的生效 IPC(主分类):B41J2/447 申请日:20110316
实质审查的生效
2013-01-30
公开
公开
机译: 用于金属纳米颗粒糊剂的激光烧结气氛控制方法和用于金属纳米颗粒糊剂的激光烧结设备,其配备有用于执行该方法的设备
机译: 用于控制选择性激光烧结设备或激光熔化设备的曝光的方法和设备
机译: 用于控制选择性激光烧结设备或激光熔化设备的曝光的方法和设备